75-73-0 / 四氟甲烷的合成工藝

四氟甲烷(CF4)是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，廣泛用于硅、二氧化硅、氮化硅和磷硅玻璃等材料的蝕刻。同時，在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、低溫制冷、氣體絕緣、泄漏檢測劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑、潤滑劑及制動液等方面也有大量應用。由于它的化學穩定性極強，CF4還可用于金屬冶煉和塑料等行業。就目前而言，CF4以其相對低廉的價格將會長期占據著蝕刻氣體的市場，因此具有廣闊的發展潛力。

四氟化碳的合成工藝有烷烴直接氟化法、氟氯甲烷氟化法、氫氟甲烷氟化法和氟碳直接合成法四種，目前工業上四氟化碳的合成主要采用氟碳直接合成法。這種生產工藝的優點是原料易得、反應可控、產物純度高。該方法已實現工業化生產，產品純度高達99.99%以上，可滿足電子工業的需求，已成為工業上制備四氟化碳的最主要方法。

未來，如果OLED新工藝得到突破，四氟化碳的需求將會顯著增加，2021年國內四氟化碳需求量將超過3000噸，2025年有望超過8000噸

目前我國半導體工廠的四氟化碳50%來自于日本，國內四氟化碳主要生產廠家有科美特，華特氣體等。其中，科美特四氟化碳年產能為1200噸/年，氣體純度高、質量穩定，2016年已成為全球最大晶圓制成公司臺積電的合格供應商，另有2000噸/年四氟化碳產能于2018年公告環評；昊華科技全資子公司黎明院擬投資建設1000噸/年四氟化碳的項目，待項目投產后黎明院將成為國內第二大四氟化碳生產廠商。